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【48812】双星新材请求抗静电光学保护膜及其制备办法的专利处理抗静电剂涣散均匀性的缺点

发布时间: 2024-08-03 07:21:30 |   作者: 杜邦特卫强Tyvek

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  金融界 2024 年 7 月 16 日音讯,天眼查知识产权信息数据显现,江苏双星彩塑新资料股份有限公司请求一项名为“一种抗静电光学保护膜及其制备办法“,公开号 CN9.7,请求日期为 2023 年 12 月。

  专利摘要显现,本请求公开了一种抗静电光学保护膜及其制备办法,至少包含基材层以及用于与光学薄膜粘接的胶黏剂层;基材层由含有或不含抗静电剂的聚酯薄膜构成,胶黏剂层由含有抗静电剂的热固化胶或紫外光固化胶构成;基材层和胶黏剂层之间构成有一层导电层。本请求的基材层和胶黏剂层可以均含有抗静电剂,在基材层含有抗静电剂的情况下,保护膜剥离时的静电可以终究靠胶黏剂层导出给基材层,因此不会有静电残留的问题。因为导电层是由金属导电资料构成的一层细密的导电结构,其电阻率远小于基材层和胶黏剂层,因此即使基材层和胶黏剂层的导电性存在不均匀,部分集合的静电也十分简单被导电层导走,因此能处理抗静电剂涣散均匀性的缺点。

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